北京电镀流程

上槽体10与下槽体50的总高度为约1公尺至2公尺。下槽体50包含隔挡件51，隔挡件51将下槽体50分隔为***下槽区52与第二下槽区53。隔板60设于上槽体10与下槽体50之间，隔板60具有至少一***排水孔61及至少一第二排水孔62，使上槽体10与下槽体50相连通，其中***排水孔61及第二排水孔62分别设于阴极20的相对两侧，且***排水孔61设于***下槽区52上方，第二排水孔62设于第二下槽区53上方。在一些实施例中，***排水孔61与第二排水孔62的形状包括，但不限于圆形或多边形。在一些实施例中，***排水孔61的数量为多个，且这些***排水孔61排成一列，并与呈长板形的***阳极30平行排列。在一些实施例中，第二排水孔62的数量为多个，且这些第二排水孔62排成一列，并与呈长板形的第二阳极40平行排列。在一些实施例中，这些***排水孔61与这些第二排水孔62的形状为圆形，直径为，较佳为、、、、、、、、、、、、、、。在一些实施例中，这些***排水孔61与这些第二排水孔62的数量分别为10个至100个，较佳为1、5、10、20、30、40、50、60、70、80、90或100个。在一些实施例中，相邻的两个***排水孔61或相邻的两个第二排水孔62之间的距离为5毫米至50毫米。浙江共感电镀有限公司是一家专业提供 电镀产品的公司，有想法的可以来电咨询！北京电镀流程

以及大面积薄板之量产可能性起见；部分PCB业者又从传统的DC挂镀，改变为自走式的水平镀铜;供电方式也分别采用原来的DC直流电源，或RP反脉冲式(ReversePulse)的变化电流。且由于阴阳极之间的距离已大幅拉近(逼至5mm以内)，在此种槽液电阻之剧降下，其可用电流密度也大幅增加到80ASF以上，使得镀铜之生产速也为之倍增，其常见配方如下页：此种1997年兴起的高速水平镀铜，初期仍采用可溶性的钢球阳极，但为了要补充高速镀铜的迅速消耗起见，平均每三天即需停工折机，以便增添其上下钛篮中的铜球。此种早期量产走走停停的痛苦经验，迫使后来的水平镀铜线几乎全改型为钛网式的“非溶解性”阳极。后者由于其阳极反应已无“溶铜”的反应过程，所有电流对于槽液的作用几乎都用于H2O的电解，以致阳极附近聚集了过多的氧气，使得添加剂遭受攻击与裂解的程度数倍于前。如此一来不但造成多量的浪费，而且镀铜层的物理性质也逊色于传统慢速的挂镀。加以水平设备的昂贵(尤其是RP反脉冲整流器)与非溶式钛材阳极的寿命不足(后文还会介绍)，以及机组维修不易等负面因素，已渐使得水平自走镀铜的热潮大不如前。而目前正在兴起中的垂直自走式的镀铜，又**了两侧悬挂的钛篮与钢球。山西电镀镀铜锡浙江共感电镀有限公司致力于提供 电镀产品，欢迎新老客户来电！

镀锌碱性室温碳钢塑料+--+光亮镀镍弱酸性50～60碳钢塑料塑料钛、氟塑料等+++-镀铬酸性45～70碳钢塑料钛、氟塑料等+--+钢铁化学镀镍酸性90～95陶瓷PP氟塑料或套槽--+-关于镀槽的大小，在同一镀种或生产线，应该采用同一个规格的镀槽，这样设计和施工都可以节省资源，则物料和水电的计量管理也方便，同时电镀现场也整齐美观。对于镀槽的装载量，可参考表3所列的参数。表3电镀槽的平均装载量镀液类别每l000mm阴极装载量/m2每1OOOL镀液装载量/m2酸性及碱性电镀液～～装饰性镀铬、防渗碳镀铜～O．3～镀硬铬～～O．4铝合金阳极氧化处理～O．6～各种化学处理～～电镀设备溶液工艺编辑一.电刷镀设备与溶液：**电源为电刷镀主要设备，采用无级调节电压的直流电源，常用电压范围为0～50V。镀笔是电刷镀的主要工具，是由手柄和阳极组成。阳极是镀笔的工作部分，石墨和铂合金是理想的不溶性阳极材料，但石墨应用**多，只在阳极尺寸极小无法用石墨时才用铂铱合金。在石墨阳极上包扎脱脂棉包套，其作用是储存电镀液，防止两极接触产生电弧零件表面和防止阳极石墨粒子脱落污染电镀液。石墨阳极的形状依被镀零件表面形状而定。电镀溶液。

涂覆蜡制剂时，零件应预热到50～70℃，再涂覆熔化了的蜡制剂，先涂一薄层，覆盖整个需绝缘的表面，这时蜡不应中途凝固，然后再反复涂至所需厚度。涂覆后在尚未冷却到室温之前的温热状态下，用小刀对绝缘端边进行修整，再用棉球沾汽油反复擦拭欲镀表面，该操作要十分仔细。镀后可在热水或**蜡桶内将蜡制剂熔化回收，然后用汽油等溶剂或水溶性清洗剂对零件进行清洗。电镀涂料绝缘法电镀时经常使用漆类绝缘涂料进行绝缘保护。这种绝缘保护方法操作简便，可适用于复杂零件。常用的绝缘涂料有过氯乙烯防腐清漆、聚氯乙烯绝缘涂料、硝基胶等。电镀发展阶段编辑(1)直流发电机阶段这种电源耗能大、效率低、噪声大．已经被淘汰。(2)硅整流阶段是直流发电机的换代产品，技术十分成熟，但效率低，体积大，控制不方便。仍有许多企业使用这种电镀电源。(3)可控硅整流阶段是替代硅整流电源的主流电源，具有效率高、体积小、调控方便等特点。随着**器件——可控硅技术的成熟与发展．该电源技术日趋成熟，已获得***应用。(4)晶体管开关电源即脉冲电源阶段脉冲电镀电源是当今**为**的电镀电源，它的出现是电镀电源的一次**。浙江共感电镀有限公司为您提供 电镀产品，有需要可以联系我司哦！

电镀工艺是利用电解的原理将导电体铺上一层金属的方法。电镀是指在含有预镀金属的盐类溶液中，以被镀基体金属为阴极，通过电解作用，使镀液中预镀金属的阳离子在基体金属表面沉积出来，形成镀层的一种表面加工方法。镀层性能不同于基体金属，具有新的特征。根据镀层的功能分为防护性镀层，装饰性镀层及其它功能性镀层。电镀时，镀层金属或其他不溶性材料做阳极，待镀的工件做阴极，镀层金属的阳离子在待镀工件表面被还原形成镀层。能增强金属的抗腐蚀性（镀层金属多采用耐腐蚀的金属）、增加硬度、防止磨耗、提高导电性、光滑性、耐热性和表面美观。中文名电镀工艺属性表面加工方法类属防护性镀层原理电化学目录1基本原理2电镀分类3工艺过程4工艺要求5影响因素6镀件清洗剂7超声波清洗8电镀工艺的评价9电镀工艺参数的管理电镀工艺基本原理编辑电镀是一种电化学过程，也是一种氧化还原过程.电镀的基本过程是将零件浸在金属盐的溶液中作为阴极，金属板作为阳极，接直流电源后，在零件上沉积出所需的镀层。例如镀镍时，阴极为待镀零件，阳极为纯镍板，在阴阳极分别发生如下反应：阴极(镀件)：Ni2++2e→Ni(主反应)2H++2e→H2↑(副反应)阳极(镍板)：Ni-2e→Ni2+。浙江共感电镀有限公司致力于提供电镀产品，欢迎您的来电哦！天津电镀回收

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电镀设备工艺要求编辑1.镀层与基体金属、镀层与镀层之间，应有良好的结合力。2.镀层应结晶细致、平整、厚度均匀。3.镀层应具有规定的厚度和尽可能少的孔隙。4.镀层应具有规定的各项指标，如光亮度、硬度、导电性等。5.电镀时间及电镀过程的温度，决定镀层厚度的大小。6.环境温度为-10℃～60℃。7.输入电压为220V±22V或380V±38V。8.水处理设备**大工作噪声应不大于80dB(A)。9.相对湿度(RH)应不大于95%。10.原水COD含量为100mg/L～150000mg/L。电镀设备电镀技术编辑电镀技术又称为电沉积,是在材料表面获得金属镀层的主要方法之一。是在直流电场的作用下，在电解质溶液（镀液）中由阳极和阴极构成回路，使溶液中的金属离子沉积到阴极镀件表面上的过程;电流效率：用于沉积金属的电量占总电量的比称为电镀的电流效率。分散能力：镀液的分散能力是指一定的电解条件下使沉积金属在阴极零件表面上分布均匀的能力。合金电镀：两种或两种以上金属离子在阴极上共沉积形成均匀细致镀层的过程叫做合金电镀（一般而言其**小组分应大于1%）。整平能力：整平能力（即微观分散能力）是指在金属表面上形成镀层时，镀液所具有的能使镀层的微观轮廓比基体表面更平滑的能力。北京电镀流程