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PVD闸阀蝶形控制阀

关键词: PVD闸阀蝶形控制阀 闸阀

2024.09.08

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微泰,三重防护闸阀、三防闸阀,应用于• Evaporation• Sputtering(溅射)• Diamond growth by MW-PACVD(通过MW-PACVD生长金刚石)• PECV• PVD• 涂层• Etch• Diffusion•CVD(化学气相沉积)等设备上。可替代VAT闸阀。微泰三重防护闸阀、三防闸阀其特点是• 阀门控制器(1CH ~ 4CH)• 应用:半导体生产线中粉末和气体等副产品的处理,防止回流。三重防护闸阀、三防闸阀规格如下:操作:气动、法兰尺寸(内径) 2.5˝ ~ 10˝、法兰类型ISO,KF、连接方式:焊接波纹管、阀门密封:氟橡胶O型环/Kalrez O型环、阀盖密封:Viton O型圈、响应时间:≤ 0.3 sec ~ 0.6 sec、操作压力范围: 1.5˝ ~ 6˝ : 1×10-10 mbar to 1400 mbar 8˝ ~ 10˝ : 1×10-10 mbar to 1200 mbar、闸门上的压差; 1.5˝ ~ 6˝ : ≤ 1400 mbar / 8˝ ~ 10˝ ≤ 1200 mbar、泄漏率:< 1×10-10 mbar ℓ/sec、维护前可用次数:200,000次、阀体温度≤ 200 °、机构温度≤ 80 °C、烤炉温度≤ 150 °C、材料:阀体(不锈钢304)/驱动器(铝6061阳极氧化)、安装位置:任意、操作压力(N2):4 ~ 7 bar。有中国台湾Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、马来西亚的英菲尼亚半导体、日本Micron、三星半导体和其它的设备使用业绩,上海安宇泰环保科技有限公司。介质可向两侧任意方向流动,易于安装。闸阀通道两侧是对称的。PVD闸阀蝶形控制阀

闸阀

微泰半导体主加工设备腔内精确压力控制的闸阀,铝闸阀(AL Gate Valve)-产品范围:1.5英寸~10英寸-12英寸可生产的产品尺寸,阀体材料:铝、气动、紧凑设计、重量轻。闸门,阀盖密封:Viton O-Ring使用次数:100000次,易于维护,低颗粒(陶瓷球机构)。- Body Material : Aluminum  - Pneumatic - Compact Design- Light of weight - Gate, Bonnet Seal : Viton O-Ring - Cycles until first service : 100,000 - Easy Maintenance - Low Particle (Ceramic Ball Mechanism),微泰半导体主加工设备腔内精确压力控制的闸阀有中国台湾Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、马来西亚的英菲尼亚半导体、日本Micron、三星半导体和其它的设备使用业绩,可替代HVA闸阀、VAT闸阀。多定位闸阀HV GATE VALVE控制系统闸阀。控制系统闸阀具有可隔离的闸阀,以滑动方式操作,可以在高真空环境中实现精确的压力控制。

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微泰,铝闸阀应用于• Evaporation(蒸发)• Sputtering(溅射)• Diamond growth by MW-PACVD(通过MW-PACVD生长金刚石)• PECV• PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷对卷)• Coating(涂层)• Etch(蚀刻)• Diffusion(扩散)•CVD(化学气相沉积)等设备上。期特点是*不论什么工艺的设备都可以使用*由半永久性陶瓷球和弹簧组成*应用:隔离泵。铝闸阀规格如下:驱动方式:手动、法兰尺寸:1.5英寸~ 10英寸、阀体:AL6061 (Anodizing)、机械装置:AL6061 (Anodizing)、阀门:O型圈(VITON)、真空密封:O型圈(VITON)、响应时间≤ 3 sec、驱动器:气缸、操作泄漏率< 1×10-10 mbar ℓ/sec、压力范围:< 1×10-10 mbar ℓ/sec、开始时的压差:≤ 30 mbar、初次维护前可用次数100,000次、阀体温度≤ 120 °执行机构温度≤ 60 °C、安装位置:任意、操作压力(N2):4 ~ 7 bar。有中国台湾Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、马来西亚的英菲尼亚半导体、日本Micron、三星半导体和其它的设备使用业绩。可替代VAT阀门。

微泰转移阀是安装在半导体PVDCVD设备工艺模块和工艺室之间的阀门系统。它充当将位于工艺模块中的晶圆转移到工艺室的沟槽。此外,它极大限度地减少了由于闸板打开和关闭造成的真空压力变化,使腔室内的真空压力得以维持。负责门控半导体晶圆转移的转移阀分为两种类型:I型和L型。一、I型转移阀。I型转移阀产品由铝或不锈钢制成,用于传输晶圆小于450毫米的半导体系统和隔离工艺室。本型的特点是叶片在垂直方向上快速移动,确保完美的腔室压力维持。它采用具有LM导向系统和单连杆的内部机构,保证高耐用性和长寿命。二、L型转移阀。L型转移阀产品由铝或不锈钢制造,其特点是设计紧凑,易于维护。L型转移阀的特点是闸门在两个阶段从垂直到水平方向移动,确保完美的腔室压力维护。它的内部机构,包括一个LM导向系统和滞留弹簧和楔形营地结构,保证了高耐用性和长寿命,同时提供稳定和精确的运动。I型和L型转移阀在在闸门开启和关闭过程中极大限度地减少了振动,并且对温度变化非常稳定,确保了较长的使用寿命。此外,即使长时间使用栅极,它们产生的颗粒也很少,从而避免了晶圆缺陷或主器件的污染。微泰不断创新,在开发先进的压力控制和控制阀制造专业从事真空闸阀不懈努力。高压闸阀只许介质单向流动,安装时有方向性。它的结构长度大于闸阀,同时流体阻力大。

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微泰主要产品有1、-手动锁定阀:操作锁定按钮关闭正在抽吸中的切断阀门切断现象的源头:2、特殊阀门:全金属配件构成,由电磁阀+传感器+D-Sub+角阀组成;3、三位阀:半开功能的压力控制阀。气动闸阀:•产品范围:1.5~30英寸•高压/超高压都可用•维护前可用次数:25万次•响应时间:0.2秒~3秒;手动(锁定)闸阀•产品范围:1.5~12英寸•高压/超高压都可用•维护前可用次数:25万次;专门用闸阀:产品范围:1.5~12英寸•高压/超高压都可用•维护前可用次数:25万次,响应时间:0.2秒客户指定的法兰,可安装角阀;三位闸阀:产品范围:2.5~12英寸•高压/超高压都可用•维护前可用次数:20万次•响应时间:0.2秒~3秒;有中国台湾Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、马来西亚的英菲尼亚半导体、日本Micron、三星半导体和其它的设备使用业绩,可替代HVA闸阀、VAT闸阀。上海安宇泰环保科技有限公司。为特定的真空系统和工艺选择适当尺寸和类型的真空闸阀对于确保高效运行和可靠的真空完整性至关重要。超大型真空闸阀闸板阀

高压闸阀结构简单,制造和维修比较方便。工作行程小,启闭时间短。密封性好,密封面间磨擦力小,寿命较长。PVD闸阀蝶形控制阀

微泰,屏蔽闸阀应用于• Evaporation(蒸发)• 溅射• Diamond growth by MW-PACVD• PECV• PVD(Cluster,Roll to Roll)• Coating(涂层)• Etch• Diffusion•CVD(化学气相沉积)等设备上。可替代VAT闸阀。其特点是*阀体和阻断器之间的间隙小于1mm*防止流入的气体(粉末)进入阀体内部*使用维修配件工具包易于维护*应用:隔离泵,气流中的高水平工艺。屏蔽闸阀规格如下:驱动方式:手动或气动、法兰尺寸:2.5英寸~ 10英寸、法兰类型:ISO, JIS, ASA, CF、连接方式:焊接波纹管、阀门密封:氟橡胶O型圈/Kalrez O型环/EPDM、阀盖密封:Viton O型圈、响应时间:≤ 2 sec、操作压力范围:2.5˝ ~ 6˝ : 1×10-10 mbar to 1400 mbar,8˝ ~ 10˝ : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、开始时的压差:≤ 30 mbar、闸门的差动压力:2.5˝ ~ 6˝ : ≤ 1400 mbar / 8˝ ~ 10˝ ≤ 1200 mbar、泄漏率:< 1×10 -10 Mbar/秒、维护前可用次数:200,000次、阀体温度≤ 200 °、机构温度≤ 60 °C、烤炉温度≤ 150 °C、材料:阀体(不锈钢304)/驱动器(铝6061阳极氧化)、安装位置:任意、操作压力(N2):4 ~ 7 bar。有中国台湾Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、马来西亚的英菲尼亚半导体、日本Micron、三星半导体和其它的设备使用业绩PVD闸阀蝶形控制阀

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