纳米压印光刻胶

吉田半导体突破光刻胶共性难题，提升行业生产效率，通过优化材料配方与工艺，吉田半导体解决光刻胶留膜率低、蚀刻损伤等共性问题，助力客户降本增效。
针对传统光刻胶留膜率低、蚀刻损伤严重等问题，吉田半导体研发的 T150A KrF 光刻胶留膜率较同类产品高 8%，密集图形侧壁垂直度达标率提升 15%。其纳米压印光刻胶采用特殊交联技术，在显影过程中减少有机溶剂对有机半导体的损伤，使芯片良率提升至 99.8%。这些技术突破有效降低客户生产成本，推动行业生产效率提升。陕西低温光刻胶供应商吉田半导体材料的绿色环保与可持续发展。

广东吉田半导体材料有限公司多种光刻胶产品，各有特性与优势，适用于不同领域。

厚板光刻胶 JT - 3001：具有优异的分辨率和感光度，抗深蚀刻性能良好。符合欧盟 ROHS 标准，保质期 1 年，适用于对光刻精度和抗蚀刻要求较高的厚板加工场景，如一些特殊的电路板制造。

SU - 3 负性光刻胶：分辨率优异，对比度良好，曝光灵敏度高，光源适应。重量为 100g，常用于对曝光精度和光源适应性要求较高的微纳加工、半导体制造等领域。

液晶平板显示器负性光刻胶 JT - 1000：有 1L 和 100g 两种规格，具有优异的分辨率，准确性和稳定性好。主要应用于液晶平板显示器的制造，能满足其对光刻胶高精度和稳定性的需求。

JT - 2000 UV 纳米压印光刻胶：耐强酸强碱，耐高温达 250°C，长期可靠性高，粘接强度高。重量 100g，适用于需要在特殊化学和高温环境下进行纳米压印光刻的工艺，如一些半导体器件的制造。 纳米级图案化的主要工具。

广东吉田半导体材料有限公司多种光刻胶产品，主要涵盖厚板、负性、正性、纳米压印及光刻胶等类别，以满足不同领域的需求。

UV 纳米压印光刻胶：JT-2000 型号，耐强酸强碱，耐高温达 250°C，长期可靠性高，粘接强度高，重量 100g。适用于需要在特殊化学和高温环境下进行纳米压印光刻的工艺，如半导体器件制造。

其他光刻胶

• 水油光刻胶 JT-2001：属于水油两用光刻胶，具有工厂研发、可定制、使用、品质保障、性能稳定的特点，重量 1L。
• 水油光刻胶 SR-3308：同样为水油两用光刻胶，重量 5L，具备上述通用优势，应用场景。

松山湖半导体材料厂家吉田，全系列产品支持小批量试产！福州水性光刻胶多少钱

水性感光胶推荐吉田 JT-1200，水油兼容配方，钢片加工精度 ±5μm！纳米压印光刻胶

1. 客户需求导向
   支持特殊工艺需求定制，例如为客户开发光刻胶配方，提供从材料选择到工艺优化的全流程技术支持，尤其在中小批量订单中灵活性优势。
2. 快速交付与售后支持
   作为国内厂商，吉田半导体依托松山湖产业集群资源，交货周期较进口品牌缩短 30%-50%，并提供 7×24 小时技术响应，降低客户供应链风险。
   性价比优势
   国产光刻胶价格普遍低于进口产品 30%-50%，吉田半导体通过规模化生产和供应链优化进一步压缩成本，同时保持性能对标国际品牌，适合对成本敏感的中低端市场及国产替代需求。
   政策与市场机遇
   受益于国内半导体产业链自主化趋势，吉田半导体作为 “专精特新” 企业，获得研发补贴及产业基金支持，未来在国产替代进程中具备先发优势。

广东吉田半导体材料有限公司汇集了大量的优秀人才，集企业奇思，创经济奇迹，一群有梦想有朝气的团队不断在前进的道路上开创新天地，绘画新蓝图，在广东省等地区的电工电气中始终保持良好的信誉，信奉着“争取每一个客户不容易，失去每一个用户很简单”的理念，市场是企业的方向，质量是企业的生命，在公司有效方针的领导下，全体上下，团结一致，共同进退，**协力把各方面工作做得更好，努力开创工作的新局面，公司的新高度，未来吉田半导体供应和您一起奔向更美好的未来，即使现在有一点小小的成绩，也不足以骄傲，过去的种种都已成为昨日我们只有总结经验，才能继续上路，让我们一起点燃新的希望，放飞新的梦想！