吉林实验室气路系统

集中供气的优点1、配有专门的控制设备，以排除每次更换气瓶时引入的杂质，确保管路气体终端的纯度。2、不间断气体供应；气体控制系统可以手动或自动进行切换，以保证气体连续供给。3、气体压力稳定；系统采用集中降压，亦可采用两级减压方式供气，供气更加稳定流畅。4、高效益；通过供气控制系统可以充分使用气体，减少残余的气体，更科学更稳定更安全可以很大地降低成本，避免安全隐患。5、操作简单安全；所有气源集中在同一地方便于管理，管路设计科学方便用气输出，很大地降低劳动强度。集中供气系统通过储罐和环状管网，为大型车间提供不间断气源。吉林实验室气路系统

尾气处理系统：半导体工艺废气处理方式依据废气处理的特性,在处理可分为四种处理方式:1、水洗式(处理腐蚀性气体)2、氧化式(处理燃烧性,毒性气体3、吸附式(干式)(依照吸附材种类处理对应之废气）4、等离子燃烧式(各类型废气皆可处理)Scrubber尾气处理装置可处理的气体种类包括半导体、液晶以及太阳能等行业中蚀刻制程与化学气相沉积制程中使用的特气，主要包括SiH4、SiH2Cl2、PH3、B2H6、TEOS、H2、CO、NF3、SF6、C2F6、WF6、NH3、N2O等。湖北洁净气体管道系统实验室气路系统安全可靠，为科研创新提供无忧保障。

大宗特气供应系统主要适用于:Semiconductor、TFT、SunSolar等工厂特气的集中供气。

大宗特气系统作为半导体生产过程中必不可少的系统，高纯气体系统直接影响全厂生产的运行和产品的质量。相比较而言，集成电路芯片制造厂由于工艺技术难度更高、生产过程更为复杂，因而所需的气体种类更多、品质要求更高、用量更大，也就更具代表性。，此系统是在气柜基础上开发的，可以持续进行超大流量不间断供应的特气供应系统

大宗特气系统的应用受益于污染控制的进步。首先大包装容器保证了气体品格的连续性，降低了屡次充装的污染风险，其次在气站建设时候做好每个单元模块的功能架构，使得大宗气体也可以保持至高的纯度。另外，液态气体使用前的预热、电子秤等的加入也是需要综合考虑的因素。

工业集中供气系统是一种现代化集中供气，这种现代化的供气方法得到了社会普遍认可，它是一种将气源通过管路设计集中汇流到用气点的现代化供气设计；这种集中供气方式很大地提高了效益，降低了人力资源的消耗并且安全美观，气体输出更加的稳定流畅；适用于氧气、氩气、二氧化碳、氢气、乙炔、丙烷、液化石油气等各种气体的输送。这种集中供气与传统气瓶供气方式相比具有相当大的优势。主要组成由气源，汇流装置，配比装置，切换装置，调压装置，终端用起点，监控及报警装置等组成杰瑞斯特机电以专业技术和丰富经验，成为企业值得信赖的合作伙伴。

系统特色为使GDS系统具有高可靠性，在系统设计上，应遵循技术先进、运行可靠、功能丰富、使用方便、易于维护、合理投资的原则，对系统进行整体设计和实施。先进性：采用先进的设计思想和设备，充分利用现有高新技术，系统达到国内先进水平。成熟性：采用成熟的技术、品牌及型号，并以标准方式建设，保证系统运行的良好。开放性：遵循相关标准，能够支持各种网络和终端设备，支持各种系统结构及开放的通讯协议。扩展性：系统结构先进、合理，软件、硬件扩充方便。可靠性：提供容错设计。支持故障检测和恢复，可管理性强。实用性：充分结合现场实际及用户选定的通讯方式，满足系统应用要求。可维护性：选用国内容易支持的、标准化的产品型号协议开放，易于维护。经济性：在设计时充分考虑业主的实际情况，达到较高的性能价格比为科研实验室提供定制化气路系统，满足复杂实验对气体纯度的严苛要求。广西特气系统价格

我们设计安装大宗气体系统，保障半导体工厂的稳定、纯净气源供应。吉林实验室气路系统

高纯气体管道的设计要点：1.对于不同特性的气体，要规划单独的供应区域，一般分为三个区：腐蚀性/毒性气体区、可燃性气体区、惰性气体区，将相同性质的气体集中加强管理，可燃性气体区要特别规划防爆墙与泄漏口，若空间不足，可考虑将惰性气体放置与毒性/腐蚀性气体区。2.管道设计需要考虑输送的距离，距离越长，成本越高，风险也越高，通常较合理的设计流速为20ml/S，可燃性气体小于10ml/S,毒性/腐蚀性气体小于8ml/S，在用量设计方面，则需要考虑使用点的压力和管径大小，前者与气体特性有关，后者使用点的管径一般为1/4”～3/8”。吉林实验室气路系统

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