NLi-7500AL2D紫外线灯有无库存
关键词: NLi-7500AL2D紫外线灯有无库存 紫外线灯
2023.09.15
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ORC制作所自1968年创业已来,立足于专门制造「光」,贡献于多个领域。用常年培育的技术力,满足客户需求,取得客户信赖。以光技术应用,先进的紫外线灯为支柱,面向电路板,液晶显示产业,半导体光刻设备,检查设备展开。
紫外线灯种类包含:超高压UV灯,高压UV灯,低压UV灯,金属卤化物灯,短弧灯等晶圆制造工程用UV照射装置・点灯用定电力/定照度电源,光照度计・光量计。
品质:1997年 6月7日 取得 ISO-9001认证(BVJC)
环境:1998年12月4日 取得 ISO-14001认证(BVJC) i线步进式光刻机NSR-SF150用于半导体器件制造。使用ORC制作所,对应型号:NLi-7500AL2。NLi-7500AL2D紫外线灯有无库存
ORC紫外线照度计/光量计,型号:UV-08;可以实现曝光设备.UV传送装置照度.光亮同事测量①測定範囲310~385nm(峰值365nm)②光量測定mJ/cm2(1)測定範囲0.1~19999.0mJ/cm2(2)表示範囲1~19999mJ/cm2(3)光量超出19999mJ/cm2,4個小数点和単位(mJ/cm2)点灭(1)測定範囲0.1~100mW/cm2(2)照度超出100mW/cm2,4個小数点和单位(mW/cm2)会点灭。调整精度:敝司UV标准器±1.5%;电源:单4电池2个或AC转换器;选择项目:UV-25,UV-42传感器,受光器线,通信线;本体尺寸:65(W)×110(D)×16mm(H),重量:160g;NLi-2011AL紫外线灯ORC Manufacturingi线步进式光刻机NSR-SF150,用于半导体器件制造。使用ORC高压汞灯,功率7.5KW,型号:NLi-7500AL2D。
i线步进式光刻机NSR-SF150适用于半导体器件的制造。性能:Resolution分辨率≦280nm,Exposure light source曝光光源i-line(365nmwavelength),Reductionratio缩小倍率1:4Maximumexposurefield,曝光范围26mm×33mm,Throughput产出≧200wafers/hour(300mmwafer,76shots),也可用于200mmwafer。采用悬吊投影镜头、减轻震动的“天钩构造”。通过高速运转的晶圆工作台,实现了每小时200片以上300mm晶圆的高产出。●超高产出采用了适于步进式光刻机的新平台“天钩构造”,同时晶圆工作台可高速运转,从而大幅度降低了振动,并实现了高产出。达到了每小时200片以上300mm晶圆的超高产出。高重合精度采用了“天钩构造”与配重物。并重新配置了空调管路,有利于工作室内的散热。使用ORC制作所生产的7.5KW超高压汞灯,对应型号:NLi-7500AL2。
UV硬化システムとは、塗料・接着剤・レジスト材等の樹脂へ、紫外線を照射し、瞬時に硬化・乾燥させる技術です。従来の熱乾燥などと比較すると、硬化・乾燥までにかかる時間が短縮でき、溶剤等の使用量も少量で済むため、使用シーンが広がっています。紫外線を照射し、UV硬化の実験及び少量生産ができます。コンパクトで設置場所を取らず実験室設備に適しています。灯具、電源を分離して軽量化を実現、室内移動が容易です。グリップを取り外せばラインに組み込み可能。高压汞灯的构成:灯座,电极,球体,触发线。
i线步进式光刻机NSR-SF140适用于半导体器件的制造。性能:Resolution分辨率≦280nm,Exposure light source曝光光源i-line(365nmwavelength),Reductionratio缩小倍率1:4Maximumexposurefield,曝光范围26mm×33mm,Throughput产出≧200wafers/hour(300mmwafer,76shots),也可用于200mmwafer。采用悬吊投影镜头、减轻震动的“天钩构造”。通过高速运转的晶圆工作台,实现了每小时200片以上300mm晶圆的高产出。●超高产出采用了适于步进式光刻机的新平台“天钩构造”,同时晶圆工作台可高速运转,从而大幅度降低了振动,并实现了高产出。达到了每小时200片以上300mm晶圆的超高产出。高重合精度采用了“天钩构造”与配重物。并重新配置了空调管路,有利于工作室内的散热。使用ORC制作所生产的7.5KW超高压汞灯,对应型号:NLi-7500AL2。i线步进式光刻机NSR-SF150,用于半导体器件制造。使用ORC高压汞灯,功率7.5KW,型号:NLi-7500AL2。NLi-2501A紫外线灯交期多久
半导体紫外线灯,让微小世界尽在掌握。NLi-7500AL2D紫外线灯有无库存
紫外线固化杀菌 (1)杀菌原理: 通过紫外线杀菌就是通过紫外线的照射,破坏及改变微生物的 DNA(脱氧核糖核酸)结构,使细菌当即死亡或不能繁殖后代,达到杀菌的目的。紫外线杀菌的有效波长范围可分为四个不同的波段:UVA(400~315nm)、UVB(315~280nm)、UVC(280~200nm)和真空紫外线(200~100nm),真正具有杀菌作用的是UVC紫外线,因为C波段紫外线很易被生物体的DNA吸收,尤以253.7nm左右的紫外线 。[1] uv固化原理 紫外线固化原理: 紫外线光(UV)固化是利用光引发剂(光敏剂)的感光性、在紫外线光照射下光引发形成激发生态分子,分解成自由基或是离子,使不饱和有机物进行聚合、接技、交联等化学反应达到固化的目的。 紫外灯的红外辐射的处理方法: 紫外线高压汞灯将60%的总功率转变为红外辐射,灯管表面温度可升到700-800℃。 NLi-7500AL2D紫外线灯有无库存
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