食品GMP车间

食品饮料卫生安全是为全社会所关注的课题，是关系国际民生之大事。国家有关部门也为饮料卫生安全制定了有关政策、法规、规范。 为此国家相关法规已对饮料卫生安全引进了GMP认证的一系列规定。要求食品饮料必须在符合一定洁净度的环境下生产、灌装、包装。尤其对果汁、乳品、纯水等饮品灌装作出了相关规定：要求灌注间整体千级，或是整体万级灌装区局部百级（GB50073洁净厂房的设计规范）以及：规范GBL4881、GBJ73，（严格要求用洁净度指标来控制灌装区洁净环境）。饮料灌装问洁净环境的控制技术是一个系统工程，它涉及到建筑、内饰、空调系统通风、空气净化消毒、给排水等，而重要的是灌装间洁净空气的处理和消毒。无尘净化工程是指在一定的空间里，利用专业的净化设备，使得该空间达到无尘的净化效果。食品GMP车间

我国的洁净室技术起始于上世纪60年代。当时洁净室技术是为满足精密仪器、航空仪表和电子行业的产品质量需求，满足这些行业加工和实验研究的精密化、微型化、高纯度、高质量和高可靠性而诞生的一门新兴技术。现在，洁净室技术已经广泛应用于电子、制药、医疗卫生、生物工程、实验室、食品、化妆品和仪器仪表、航空航天等多种产业。 通过近几十年的发展，中国洁净室技术的产业链已逐步形成，上游包括空气净化设备的制造、洁净室用各种耗材生产;中游包括与洁净室的设计、建造、调试、测试、运行相关的产业;下游包括各个使用洁净室的行业。并且，随着下游产业在中国的快速发展，以及它们对生产环境的要求日益增高，洁净室技术也处于高速发展之中。同样，洁净室技术的发展是下游产业顺利进行的有力保障。所以，洁净室技术与下游产业是互相促进、互相影响的关系。广州装修无尘车间广州旗兴成立至今，为包括众多世界500强企业在内的食品、医药、机械等行业企业提供各类净化系统380项。

半导体、芯片、集成电路生产的无尘车间要求 　　国家大力支持半导体的发展，将半导体材料净化作为半导体器件发展的重要基础。由于大规模和超大规模集成电路的工艺要求，为得到高纯度的硅材料，原料和中间媒介的高纯度和生产环境的洁净度成为影响产品质量的一个突出问题。 　　芯片从上世纪50年代发展至今，大致经历了三大发展阶段:在美国发明起源-在日本加速发展-在韩国与中国台湾成熟分化。前两次半导体产业转移原因分别是：日本在PCDRAM市场获得美国认可；韩国成为PCDRAM新的主要生产者和中国台湾在晶圆代工、芯片封测领域成为代工。现如今中国已经成为世界上的半导体市场，凭借强劲的需求和强有力的政策，芯片行业迎来了第三次产业转移，向大陆转移的趋势已经势不可挡。集成系统电路芯片的成品率与芯片的缺陷缺陷密度有关，而芯片的缺陷密度与空气中粒子个数有关。因此，集成电路的高速经济发展，不仅对空气中控制粒子的尺寸有极高的要求，而且也需进一步进行控制粒子数；同时，对于一个超大规模集成电路企业生产环境的化学污染风险控制能力也有一些相关的要求。

净化工程现如今并不陌生，在很多行业，为了达到一个洁净无污染的空间，都会选择设计建设一个能控制洁净度和温湿度的空间，这样的空间能够保证产品的生产制造，这样的空间我们称之为无尘车间。下面为您介绍无尘车间的洁净隧道。 洁净隧道 以两条层流工艺区和中间的乱流操作活动区组成隧道形洁净环境的净化处理方式叫洁净隧道。这是全室净化与局部净化相结合的典型，是目前推广采用的净化方式，也被称之为第三代净化方式。 很多大型的净化工程中，对于净化区和周边区的洁净度等级要求会有些不同，这样不单单能够发挥无尘车间的作用，又能够降低净化工程成本。我们的团队人员组成非常稳定，平均拥有10年以上的设计和施工经验。

洁净室的气流会影响到洁净度，换言之，即人、机器隔间、建筑结构等所产生的尘埃之移动、扩散受到气流的支配，进而影响洁净度。洁净室选择恰当稳定的气流很重要。洁净室内的气流是左右洁净室性能的重要因素。一般洁净室气流速度是选0.25~0.5m/s之间，此气流速度属微风区域，易受人、机器等的动作而干扰趋于混乱、虽提高风速可抑制此一扰乱之影响而保持洁净度，但运转成本的增加也会增加。 洁净室洁净度要达到稳定效果，均一气流之保持是一大重要因素。洁净室均一气流若无法保持，表示风速有异，特别是在壁面，气流会沿着壁面发生涡流作用，此时要实现高洁净度事实上很困难。如垂直层流式方向要保持均一气流必须：(a)吹出面的风速不可有速度上的差异；(b)地板回风板吸入面之风速不可有速度上的差异。速度过低或过高(0.2m/s，0.7m/s)均有涡流之现象发生，而0.5m/s之速度，气流则较均一。目前一般洁净室，其风速均取在0.25~0.5m/s之间。 广州旗兴公司位于广东省广州市海珠区智通工业园，主要专注于为用户提供整厂净化厂房一站式解决方案。厂房净化工程

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广州市旗兴精密器材有限公司，成立于2003年，是一家股份制净化技术企业，公司位于广东省广州市海珠区智通工业园，主要专注于为用户提供整厂净化厂房一站式解决方案。 相对湿度是洁净室运作过程中一个常用的环境控制条件。半导体洁净室中典型的相对湿度目标值大约控制在30至50%的范围内，允许误差在±1%的狭窄的范围内，例如光刻区──或者在远紫外线处理(DUV)区甚至更小──而在其他地方则可以放松到±5%的范围内。 相对湿度有一系列可能使洁净室总体表现下降的因素，其中就包括： 1、细菌生长; 2、工作人员感到室温舒适的范围; 3、出现静电荷; 4、金属腐蚀; 5、水汽冷凝; 6、光刻的退化; 7、吸水性。食品GMP车间