半导体用高纯度氮气发生器

液质联用中除了样品处理问题、氮气的纯度也是很重要的影响因素，却往往被忽视。膜式的发生器轻巧好用且价格便宜，但是实际供应纯度就有95-96%，且1-3年后纯度即会递减至93%左右。目前多数使用者因为只关心压力达到100psi，就以为氮气没问题。实际上纯度可能早已不足，并且持续污染质谱，导致常常在质谱的毛细管严重氧化，或者仪器灵敏度下降、离子源、碰撞池被严重污染时，才会发现氮气纯度不足问题。建议用户在日常实验时便要多关注氮气纯度，以免纯度灵敏度不足，影响到实验时才发现，需花大钱维修质谱。氮气发生器，就选日本东宇机电，用户的信赖之选，有需求可以来电购买氮气发生器！半导体用高纯度氮气发生器

深冷空分制氮装置适用于有极大氮气需求的大规模工业应用。一般会建造深冷空分制氮场合是专业的气体供应厂家，大量生产后分装成杜瓦罐及钢瓶罐;或者是使用量极大(3000Nm3/h)以上的工厂使用。中小规模的蛋器使用深冷制氮就显得较为不适用。3000Nm3/h以下使用量的场合，一般依照纯度不同，建议使用变压吸附式的制氮机，或者膜式的制氮机。需求氮气纯度在97%以上的话推荐使用变压吸附PSA式，需求氮气纯度97%以下的部份则推荐使用膜式氮气发生器。理研SCIEX氮气发生器报价日本东宇机电为您提供氮气发生器，有想法的可以来电购买氮气发生器！

欧洲药典定义了两种类型的氮气：“医用氮气”和“低氧氮气”。医用氮气是属于在医院使用，医疗用途的氮气;低氧氮气是用于对氧敏感的药品的保护气体。然而药典中就对于低氧含量的氮气纯度要求要达到99.5%，而没有水分、油分、粒子的标准要求。膜式的氮气发生器99.5%的纯度为极限值，无法达到，且包含的水分及杂质较多，因此一般使用于制药行业的氮气发生器都会采用进口的变压吸附PSA分子筛型式的氮气发生器，不但可以确保得到洁净气体，也可避免国内目前尚在克服的分子筛粉化问题，避免产线污染。

激光切割主要使用的辅助气体有氧气、氮气两种切割方式。在氧气切割时，氧气参与燃烧，断面可能会较粗糙，且氧化反应增大的热影响区，切割质量相对氮气切割会较差，可能出现切缝宽、断面斜纹、表面粗糙度差及焊渣等质问题。氮气切割中，氮气的惰气可避免过多的氧化反应，熔点区域温度相对氧切割较低; 加上氮气的冷却保护作用，反应较平稳均匀，切割断面较为光滑，表面粗糙度低，而且无氧化层。氧气切割主要应用于碳钢。氮气切割适合铝、黄铜、不锈钢等。激光切割因为是高温反应，需要极高的氮气纯度99.999%以上，目前国内技术需要加碳或加氢纯化; 日本东宇的制氮机可不经过纯化器，即可直接达到符合使用要求的99.999%高纯氮气。氮气发生器，就选日本东宇机电。

早期薯片、牛奶等包装中所充的气体是空气，近来随着发现氮气的惰性特点，可以有效地防止细菌，酵母菌和霉菌等的增生与繁殖。虽然惰性气体也可以采用二氧化碳，为弱酸性，可能对食物风味造成影响，且氮气可直接采用氮气发生器，从大气中源源不绝的取得，成本较二氧化碳低很多，因此目前多数食品包装会选择采用氮气发生器冲填入包装内，以达到良好的保鲜效果。充填在食品内的氮气，必须符合国标GB29202-2012《食品安全国家标准 食品添加剂 氮气》的要求，食品添加剂氮气的纯度需要达到99%。此外，出口的氮气必须要符合ISO8573-1:2010 Class 1.2.1 的压缩空气标准，确保产出的氮气是高纯度的洁净气体。日本东宇机电是一家专业提供氮气发生器的公司，有想法的不要错过哦！日本东宇安捷伦氮气发生器品牌

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气辅注塑是将高压氮气注射到熔融的胶料中，形成推动溶料前进，实现注射、保压、冷却等技术。利用气体高效的压力传递性，使气道内各处的压力保持一致，消除内部应力，防止产品变形，并且同时大幅降低模腔内压力。利用此原理，在成型过程中可以降低锁模力，减轻产品重量、消除缩痕…等。气辅模具与传统注塑模具差别是气辅增加了进气元件（气针），以及气道的设计。氮气的纯度会影响气针的锈蚀程度，因此气辅设备建议使用PSA变压吸附，可产生稳定纯度的氮气，维持气针的良好寿命，避免溶胶堵塞、气针损坏等问题。半导体用高纯度氮气发生器