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真空系统应用中，为达到真空装置的精确便捷控制，实现工艺流程自动转换及参数自动调节，会在真空系统中设置各种自动控制系统。

真空系统自动控制系统

首先是继电器控制系统。在PLC控制系统未出现以前，继电器控制系统是真空装置控制的主流形式，主要由一些控制真空泵、真空泵阀门、工件旋转机构等的基本控制线路构成。目前这种控制系统在一些简单的真空系统控制中得到较多采用。

压力控制仪控制系统。在真空系统应用中，会因为真空工艺需要，可能会要求真空度保持在某一给定值上。但实际上由于真空室内的放气或者真空泵的抽速变化等原因，使得真空度偏离给定值，这时就需要通过压力控制仪来对压力进行自动调节。压力控制仪控制系统包括给定电路、调节单元、测量单元以及执行机构（真空微调阀）等。

目前，PLC已一种普及的工业控制装置，被认为是现代工业自动化的三大支柱（PLC、机器人、CAD/CAM）之一。

计算机控制系统。计算机控制系统的发展得益于微处理器的快速发展。目前其在真空系统应用中主要涉及程序控制、工艺参数的数据采集、传输、计算、处理显示、记录调节，并对真空装置的运行状态进行监视、诊断，提高真空系统的控制品质，实现真空系统的真正自动化。

真空系统应用的计算机控制系统包括硬件与软件。硬件上包括计算机、相关的**设备、测量装置和执行机构。这里的计算机可以是工业控制机，也可以是微型计算机、单片机，配置适当的接口与**设备。而软件主要就是控制系统的控制程序，包括系统软件与应用软件，可以使计算机自动完成真空系统预置的控制任务。

VC100C真空控制器广泛应用于旋转蒸发仪、真空浓缩仪、干燥箱等设备的真空调控。调控真空可以以缩短工艺时间并提高重复性。

VC100C  概述：

VC100C是一台即插即用的两点法真空控制器,它包含带内置陶瓷真空传感器的VC100C真空控制器，集成了单向阀的放气阀及耐化学腐蚀的电磁阀，结构非常紧凑，整个控制器安装方便。对于已有真空源如无油真空泵或有效的真空网络源，电子控制可以增加过程效率，并增加溶剂回收率。在“探测”模式下，控制器可以**探测到沸腾所需蒸汽压，并切换到两点法真空控制模式。在操作过程中随时可进行手动调节。

VC100C性能特性：

1、**的蒸汽压探测功能—更节省过程时间

2、结构紧凑，带耐腐蚀真空阀及实验室常用软管接口—即插即用

3、真空测量集成在真空阀块内—直接将VC100C连接在泵和真空应用之间

4、内置放气阀—简单的压力平衡或过程结束后的惰性气体放气

5、单向止回阀—共用真空源的平行应用不会相互干扰 真空控制器是否可以**使用。

真空控制器技术参数：

真空度是每一个蒸发过程中的关键参数，瑞士BUCHI公司V-800真空控制器可显示、控制和调节真空，是一种理想的旋转蒸发仪的配套设备。由于它直接安装于旋转蒸发仪或真空泵的上方，所有过程参数一目了然。适用于所有的应用和要求，包括简单的真空度设定和维持，到复杂混合物的全自动蒸馏。

一、性能特点：

●采用电容测量原理的防化学腐蚀的高精度压力传感器。

●内置放气阀，一旦断电时可以自动打开排气，防止系统过压。

●配合真空泵创新的速度控制技术，可以实现无滞后、高精度真空度控制，控制真空泵运转没有噪音。 

使真空泵更耐用,更省电,更安静!

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真空控制器控制原理是什么？安徽耐用性高真空控制器诚信合作

作为实验室和分析技术的***之一, 我们一直致力于努力钻研实验室工作人员的需求。然而, 我们不仅只希望满足其需求, 而且更致力于提供真正的解决方案，由此为全球所有实验室改善工作效率。

兼容所有的真空系统，控制精确

VC100C真空控制器

通过这款桌面式VC100C真空控制器, 我们研发的这款产品易于安装并且可适合更多的应用:

› 可通过单一真空源实现多重应用

› 得益于清洁功能, 真空阀尤为耐用 (可针对每项应用进行设置)

› 具有高度耐化学性的陶瓷压力传感器

得益于集成放气阀于一体的设计, 用户可轻松地释放压力, 或者在进程结束后使用惰性气体保护。此外, 通过按钮能够实现进程中的压力释放，电子控制系统可实现更高的流程效率和溶剂回收率。

应用领域

› 具有旋转蒸发仪的真空蒸馏设备

› 化学工艺技术

› 实验室反应釜, 分析仪器

› 分散与集中式真空供应

› 过滤与干燥器

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