南京斯托克斯相位差测试仪研发

贴合角测试仪在AR/VR光学模组的组装工艺控制中不可或缺。相位差测量技术可以纳米级精度检测光学元件贴合界面的角度偏差。系统采用白光干涉原理，测量范围±5度，分辨率达0.001度。在Pancake模组的检测中，该测试能发现透镜堆叠时的微小角度误差。当前的自动对焦技术确保测量点精确定位，重复性±0.002度。此外，系统还能评估不同胶水类型对贴合角度的影响，为工艺选择提供依据。这种高精度测试方法明显提升了超薄光学模组的组装良率，降低生产成本。苏州千宇光学自主研发的相位差测量仪可以测试0-20000nm的相位差范围，实现较低相位差测试，可解析Re为1纳米以内基膜的残留相位差，高相位差测试，可对离型膜、保护膜等高相位差样品进行检测，搭载多波段光谱仪,检测项目涵盖偏光片各学性能，高精密高速测量。并且还可以支持定制可追加椎光镜头测试曲面样品相位差测试仪，快速测试相位差贴合角。南京斯托克斯相位差测试仪研发

在光学薄膜的研发与检测中，相位差测量仪发挥着不可替代的作用，多层介质膜在设计和制备过程中会产生复杂的相位累积效应，这直接影响着增透膜、分光膜等光学元件的性能指标。通过搭建基于迈克尔逊干涉仪原理的相位差测量系统，研究人员可以实时监测镀膜过程中各层薄膜的相位变化，确保膜系设计的光学性能达到预期。特别是在制备宽波段消色差波片时，相位差测量仪能够精确验证不同波长下的相位延迟量，为复杂膜系设计提供关键实验数据。上海偏光片相位差测试仪研发能快速评估偏光片的均匀性，提高产品良率。

光学特性诸如透过率、偏振度、贴合角和吸收轴等参数，直接决定了偏光材料在显示中的效果。因此控制各项参数，是确保终端产品具备高效光学性能的重中之重。PLM系列是由千宇光学精心设计研发及生产的高精度相位差轴角度测量设备,满足QC及研发测试需求的同时，可根据客户需求，进行In-line定制化测试该系列设备采用高精度Muller矩阵可解析多层相位差，是对吸收轴角度、快慢轴角度、相位差、偏光度、色度及透过率等进行高精密测量；是结合偏光解析和一般光学特性分析于一体的设备，提供不同型号，供客户进行选配，也可以根据客户需求定制化机型。

在光学干涉测量中，相位差测量仪是重要设备之一。干涉仪通过分析两束光的相位差来测量光学元件的表面形貌或折射率分布。相位差测量仪能够以纳米级分辨率检测相位变化，苏州千宇光学自主研发的相位差测量仪相位差测量重复性≤0.08nm，适用于高精度光学元件的检测。例如，在望远镜镜面的加工中，相位差测量仪可帮助检测镜面的面形误差，确保成像清晰度。此外，在光学玻璃的均匀性测试中，相位差测量仪也能通过干涉条纹分析，评估材料的折射率分布，为光学设计提供可靠数据。
相位差贴合角测试仪可快速诊断贴合不良导致的漏光、色偏等问题，提升良品率。

在AR衍射光波导的制造过程中，相位差测量仪是保障其性能与良率的**检测装备。衍射光波导表面刻蚀的纳米级光栅结构的形状、深度和周期均匀性，直接决定了光线的耦合效率、出瞳均匀性和成像清晰度。传统尺寸测量手段难以评估其光学功能性能。该仪器能够直接测量透过光波导后的波前相位信息，反演出光栅槽形的等效相位调制作用，从而实现对光栅加工质量的功能性检验，为蚀刻工艺参数的精细调整提供依据，避免因微观结构不均导致的图像模糊、重影或亮度不均等缺陷。通过实时监测相位差，优化AR/VR光学胶合的工艺参数。福建斯托克斯相位差测试仪研发

在偏光片生产中，相位差测试仪能精确检测膜层的双折射特性。南京斯托克斯相位差测试仪研发

平面方向的光学特性测量对AR/VR显示均匀性控制至关重要。相位差测量仪通过二维扫描技术，可以获取光学模组在整个有效区域的性能分布。这种测试对评估Pancake系统的视场均匀性尤为关键，测量点密度可达100×100。系统配备高精度位移平台，定位精度±1μm。在衍射光波导的检测中，平面测量能发现耦出区域的光学特性波动。当前的实时数据处理技术可在测量同时生成均匀性云图，直观显示问题区域。此外，该数据还可用于建立光学补偿算法，提升图像显示质量。
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千宇光学专注于偏振光学应用、光学解析、光电探测器和光学检测仪器的研发与制造。主要事业涵盖光电材料、光学显示、半导体、薄膜橡塑、印刷涂料等行业。 产品覆盖LCD、OLED、VR、AR等上中下游各段光学测试需求，并于国内率先研发相位差测试仪打破国外设备垄断，目前已广泛应用于全国光学头部品牌及其制造商

千宇光学研发中心由光学博士团队组成，掌握自主的光学检测技术, 测试结果可溯源至国家计量标准。与国家计量院、华中科技大学、东南大学、同济大学等高校建立产学研深度合作。千宇以提供高价值产品及服务为发展原动力， 通过持续输出高速度、高精度、高稳定的光学检测技术，优化产品品质，成为精密光学产业有价值的合作伙伴。