广东数据自动传输非接触式测厚仪

设备适配半导体超薄基材的厚度检测作业场景。随着半导体器件小型化发展，超薄晶圆、超薄基板等基材应用愈发，这类基材厚度极薄、韧性较低，接触式检测的按压动作极易造成基材弯折、破损。非接触式测厚仪无物理接触的检测方式，可从根源规避基材损伤问题，适配微米级超薄基材的厚度测量。设备的高灵敏度感应组件，能够捕捉超薄基材的细微厚度变化，精细反馈基材加工后的厚度参数，为超薄半导体基材的打磨、切割工艺优化提供数据支撑。3D NAND 芯片通道制程，非接触式测厚仪分层测厚管控堆叠薄膜厚度提升闪存芯片良率。广东数据自动传输非接触式测厚仪

非接触式测厚仪具备优异的透光检测特性，能够很好适配半导体各类透明薄膜的工业化检测需求。半导体生产制程中，光刻胶薄膜、表层钝化膜、绝缘防护薄膜等功能性材料均为透光材质，这类薄膜质地轻薄柔软，表层结构极易受损。传统机械式接触检测方式，容易对薄膜表层造成挤压、划痕、形变等损伤，常规检测设备也难以穿透透光材质完成有效测算，检测适配性较差。该设备依托光线透射与反射的光谱差异原理测算厚度，不会受材料透光、折射等物理特性干扰，可稳定输出有效的厚度检测数据。全程无物理接触的检测模式，能够完好保护轻薄透明膜层的结构完整性，避免检测作业带来的工件损耗，可广泛应用于各类透光型半导体功能薄膜的制程品质管控，适配多道精密加工工序的检测场景。苏州白光共聚焦非接触式测厚仪厂家晶圆减薄量产产线在线，非接触式测厚仪连续取样监控研磨速率与成品厚度参数。

该设备可实现非破坏性检测，适配半导体试样与成品的全阶段检测。半导体研发试样、小批量试制的工件制作成本较高，部分试样具备性试制价值，传统接触式检测存在损伤工件的风险，无法用于成品试样检测。非接触式测厚仪依靠光学感应采集数据，不会对工件表面结构、镀膜层、电路层产生任何破坏，检测后的工件可正常投入后续工序或性能测试。在新品工艺调试阶段，工作人员可反复对同一样品进行多次检测，积累多组数据用于工艺分析，有效降低试样损耗成本，助力工艺迭代优化。

非接触式测厚仪可适配半导体防潮涂层的厚度质控。半导体器件的防潮涂层是防护器件内部电路的重要结构，涂层厚度均匀性直接决定器件的防潮、防腐蚀能力，厚度不均容易出现局部防潮失效的问题。该设备以非接触方式完成防潮涂层全域厚度检测，精细识别涂层偏薄、堆积、空缺等异常状态，全程不会损伤柔软的涂层表层结构。依托详实的检测数据，工作人员可优化涂层涂覆速度、胶量、喷涂轨迹等参数，提升防潮涂层的成型均匀度，强化器件环境适应能力。碳化硅晶圆精加工环节，非接触式测厚仪以纳米精度监测基材厚度波动变化情况。

在透光薄膜检测领域，非接触式测厚仪相比接触式设备适配性更佳。半导体光刻胶膜、钝化膜、绝缘透光涂层等材质透光性强，接触式设备依靠物理接触无法区分透光膜层与基底结构，难以单独测算薄膜厚度，检测数据混杂基底参数，参考价值较低。非接触式测厚仪利用光谱透射与反射差异识别膜层界面，可有效区分透光薄膜与基材基底，单独采集表层透光膜层的厚度数据，不受材质透光、折射特性影响。能够精细管控各类透光功能薄膜的制程厚度，填补接触式设备在透光材质检测中的应用短板。刻蚀腔体保养后试生产，非接触式测厚仪通过膜厚变化判定腔体洁净度是否达到标准。湖南线粗糙度测量非接触式测厚仪

先进制程芯片工艺研发，非接触式测厚仪连续采集厚度数据支撑新工艺量产可行性验证。广东数据自动传输非接触式测厚仪

在微区、微小元器件检测场景，非接触式测厚仪优于传统接触式设备。微型贴片器件、微电极、窄边线路区域尺寸狭小，接触式设备的探头尺寸相对较大，无法精细聚焦微小检测区域，容易触碰周边结构，造成器件损伤和检测点位偏移，难以完成精细检测。非接触式测厚仪可聚焦微米级微区区域，精细锁定微小工件的目标检测点位，规避周边结构干扰，完成微型器件镀层、胶层、基材的厚度采集。能够适配半导体器件微型化的发展趋势，满足精密微区质控需求。广东数据自动传输非接触式测厚仪

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