北京三代半导体烧结银膏

烧结纳米银膏采用纳米制备技术，银粉粒径在纳米级区间，颗粒均匀性与分散性达到行业前列水平。在封装烧结过程中，纳米银颗粒可很快的完成界面融合，形成连续且致密的导电网络，烧结后银层电阻率处于较低水平，远优于传统微米级银膏产品。该材料适配芯片与基板的互连需求，能大幅降低芯片与基板间的接触电阻，减少信号传输损耗与能量浪费，尤其适配高密度、小间距的精密电子封装场景，为高性能电子器件的信号稳定传输与运行提供有力支撑。聚峰烧结银膏烧结层致密度高、孔隙率低，剪切强度优异，满足车规级与航空航天可靠性要求。北京三代半导体烧结银膏

聚峰烧结银膏通过优化粘结剂与表面处理技术，具备优异的基材适配性与附着力，可牢固附着于陶瓷、硅片、氧化铝、氮化铝等多种电子封装常用基材表面。烧结后银层与基材界面结合紧密，无分层、剥离现象，能适应不同基材的热膨胀系数差异，在温度变化时依旧保持连接稳定。从陶瓷基功率模块到硅基芯片封装，从高频通信基板到工业电子组件，聚峰烧结银膏凭借基材适配能力，覆盖多场景电子封装需求，为不同类型器件的组装提供灵活可靠的导电连接方案。南京纳米银烧结纳米银膏厂家烧结纳米银膏烧结后电阻率低至 10⁻⁸Ω・m 量级，导电性能远超传统锡基焊料。

聚峰烧结银膏能够同时适配铜基板与AMB陶瓷基板的异质界面互连需求。铜基板具有较好的导电和导热性能，但表面易氧化生成疏松的氧化铜层。AMB陶瓷基板表面通常覆有铜箔，通过活性金属钎焊工艺与氮化硅或氮化铝陶瓷结合。两种基板的热膨胀系数差异较大，铜约为17ppm/K，而氮化铝陶瓷约为4.5ppm/K。聚峰烧结银膏的烧结层具备一定的塑性变形能力，可以吸收热循环产生的剪切应变。在互连工艺中，银膏首先通过丝网印刷或点胶方式涂覆在两种基板表面，然后进行预干燥去除低沸点溶剂。贴装芯片后进行分段升温烧结，银膏在两种材料界面形成均匀过渡层。聚峰烧结银膏对不同表面处理状态的基板表现出良好的润湿性，无论是裸铜还是化学镀镍钯金表面均可直接使用。这为混合封装结构提供了简洁的材料体系。

烧结银膏的长期可靠性已通过严苛的行业测试验证，成为高可靠应用的优先选择材料。在 175℃的高温加速老化测试中，采用烧结银膏连接的功率模块经历 5000 次完整的功率循环后，其连接界面依然保持完好，剪切强度仍能维持初始值的 90% 以上。这一数据远优于传统焊料，后者在同等条件下往往会因界面金属间化合物过度生长、热疲劳裂纹扩展而导致强度急剧下降。这种优良的抗老化与抗热循环能力，使得烧结银膏在对寿命与稳定性有很高要求的领域，如汽车电子、工业、航空航天等，成为系统安全、稳定运行的不可或缺的关键封装材料。聚峰烧结银膏导热率超 200W/m・K，适配高功率模块，散热快让器件稳定。

烧结纳米银膏在-55℃至250℃的宽幅热循环测试中，经过1000次循环后电阻变化率仍低于5%。热循环测试模拟电子模块在实际工作中经历的开关机温度波动。测试设备将样品交替暴露于低温舱与高温舱，每个极端温度保温15分钟，转换时间不超过1分钟。烧结纳米银膏形成的连接层具有与银相近的线膨胀系数，约19ppm/K，与硅芯片的2.6ppm/K存在差异但可通过银膏的微结构释放应力。热循环过程中，连接层内部可能萌生微裂纹，裂纹扩展会截断电子路径导致电阻上升。烧结纳米银膏的纳米银颗粒烧结后形成细晶，晶粒尺寸约200至500纳米，细晶有助于分散热应力。5%的电阻变化率是行业公认的合格阈值，超出此范围意味着互连可靠性下降。对比测试显示，相同条件下的锡银铜焊料在500次循环后电阻变化率已超过20%。烧结纳米银膏的低电阻漂移特性使其适合安装在发动机舱或卫星轨道等温差剧烈环境。纳米烧结银膏无铅无卤配方体系，符合电子行业规范，适配车规制程。北京三代半导体烧结银膏

烧结银膏热导率超 200W/m・K，可大幅降低高功率芯片结温，提升散热效率。北京三代半导体烧结银膏

性能高可靠银烧结材料，适用于高要求应用场景。能够解决传统焊料热导率不足问题，提升散热效率；降低界面孔隙率，提高器件可靠性与寿命；应对高功率器件高温失效问题；改善长时间印刷过程中的稳定性与一致性问题；满足半导体封装对高导电、高导热双重需求。广泛应用于光伏、新能源车辆、高铁、风力发电、充电桩等应用场景。同时适用于IGBT模块、SiC功率器件等对散热性能和连接可靠性要求极高的封装场景，满足长期高温高负载运行环境下的稳定性需求。北京三代半导体烧结银膏