基片封装烧结纳米银膏

烧结纳米银膏采用纳米制备技术，银粉粒径在纳米级区间，颗粒均匀性与分散性达到行业前列水平。在封装烧结过程中，纳米银颗粒可很快的完成界面融合，形成连续且致密的导电网络，烧结后银层电阻率处于较低水平，远优于传统微米级银膏产品。该材料适配芯片与基板的互连需求，能大幅降低芯片与基板间的接触电阻，减少信号传输损耗与能量浪费，尤其适配高密度、小间距的精密电子封装场景，为高性能电子器件的信号稳定传输与运行提供有力支撑。烧结纳米银膏烧结后电阻率低至 10⁻⁸Ω・m 量级，导电性能远超传统锡基焊料。基片封装烧结纳米银膏

聚峰有压烧结银具有高导热性和高导电率，可明显提升器件散热效率与电性能表现；同时具备优异的抗剪切强度和低孔隙率（<7%），确保连接层长期可靠性。支持低温烧结与高温服役环境，兼顾工艺适应性与应用稳定性，并符合REACH及RoHS法规要求，适用于半导体封装应用。产品需在冷冻（-20℃～0℃）或冷藏（-10℃～0℃）条件下密封储存。使用前应按TDS要求充分回温，并进行均匀搅拌。建议在25℃、相对湿度40%–50%的洁净环境中使用，以保证印刷质量及烧结一致性。基片封装烧结纳米银膏烧结纳米银膏烧结后银层服役温度近银熔点 961℃，远超传统焊料使用上限。

聚峰烧结银膏针对 AI 芯片、服务器电源等高算力、高功率设备进行专项优化，满足长时间高负载运行需求。AI 与服务器器件功率密度高、发热集中，传统焊料难以兼顾散热与可靠性，而该银膏烧结后热阻低、散热快，，让算力稳定输出。其高导电特性支持大电流传输，适合大功率电源模块使用，减少发热与损耗。同时，材料抗老化、抗电迁移性能优异，可满足 7×24 小时不间断工作要求，长期使用性能衰减小。在数据中心、云计算设备等关键领域，聚峰烧结银膏可提升器件可靠性与寿命，为算力基础设施提供坚实材料后盾。

聚峰纳米烧结银膏的流变性能经过调控，具备良好的触变性与流动性，可完美适配丝网印刷、点胶、喷涂等多种电子封装主流加工工艺。在丝网印刷中，银膏能均匀填充网版图案，印刷线条边缘清晰、厚度均匀；在点胶工艺中，可实现定量出胶，适配小间距、高精度的封装点位需求。优异的流变性能让聚峰烧结银膏无需额外调整工艺参数，即可适配不同封装设备与生产流程，提升封装加工效率与产品一致性，满足规模化、标准化的电子封装生产需求。聚峰烧结银膏实现低温烧结、高温服役，适配第三代半导体严苛封装场景。

聚峰烧结银膏能够同时适配铜基板与AMB陶瓷基板的异质界面互连需求。铜基板具有较好的导电和导热性能，但表面易氧化生成疏松的氧化铜层。AMB陶瓷基板表面通常覆有铜箔，通过活性金属钎焊工艺与氮化硅或氮化铝陶瓷结合。两种基板的热膨胀系数差异较大，铜约为17ppm/K，而氮化铝陶瓷约为4.5ppm/K。聚峰烧结银膏的烧结层具备一定的塑性变形能力，可以吸收热循环产生的剪切应变。在互连工艺中，银膏首先通过丝网印刷或点胶方式涂覆在两种基板表面，然后进行预干燥去除低沸点溶剂。贴装芯片后进行分段升温烧结，银膏在两种材料界面形成均匀过渡层。聚峰烧结银膏对不同表面处理状态的基板表现出良好的润湿性，无论是裸铜还是化学镀镍钯金表面均可直接使用。这为混合封装结构提供了简洁的材料体系。纳米银膏烧结后等效熔点 961℃，可在 300℃高温长期工作，解决传统焊料高温软化失效难题。基片封装烧结纳米银膏

较传统焊锡膏，烧结银连接寿命更长，高温可靠性与抗电迁移能力突出。基片封装烧结纳米银膏

烧结纳米银膏在-55℃至250℃的宽幅热循环测试中，经过1000次循环后电阻变化率仍低于5%。热循环测试模拟电子模块在实际工作中经历的开关机温度波动。测试设备将样品交替暴露于低温舱与高温舱，每个极端温度保温15分钟，转换时间不超过1分钟。烧结纳米银膏形成的连接层具有与银相近的线膨胀系数，约19ppm/K，与硅芯片的2.6ppm/K存在差异但可通过银膏的微结构释放应力。热循环过程中，连接层内部可能萌生微裂纹，裂纹扩展会截断电子路径导致电阻上升。烧结纳米银膏的纳米银颗粒烧结后形成细晶，晶粒尺寸约200至500纳米，细晶有助于分散热应力。5%的电阻变化率是行业公认的合格阈值，超出此范围意味着互连可靠性下降。对比测试显示，相同条件下的锡银铜焊料在500次循环后电阻变化率已超过20%。烧结纳米银膏的低电阻漂移特性使其适合安装在发动机舱或卫星轨道等温差剧烈环境。基片封装烧结纳米银膏